TY - JOUR AU - Gu, D. F. AU - Baumgart, H. AU - Tapily, K. AU - Shrestha, P. AU - Namkoon, G. AU - Ao, X. Y. AU - Müller, F. PY - 2011 DA - 2011// TI - Precise control of highly ordered arrays of nested semiconductor/metal nanotubes JO - Nano Res VL - 4 UR - https://doi.org/10.1007/s12274-010-0066-9 DO - 10.1007/s12274-010-0066-9 ID - Gu2011 ER - TY - JOUR AU - Jiang, X. R. AU - Huang, H. AU - Prinz, F. B. AU - Bent, S. F. PY - 2008 DA - 2008// TI - Application of atomic layer deposition of platinum to solid oxide fuel cells JO - Chem Mater VL - 20 UR - https://doi.org/10.1021/cm7033189 DO - 10.1021/cm7033189 ID - Jiang2008 ER - TY - JOUR AU - Liu, C. AU - Wang, C. C. AU - Kei, C. C. AU - Hsueh, Y. C. AU - Perng, T. P. PY - 2009 DA - 2009// TI - Atomic layer deposition of platinum nanoparticles on carbon nanotubes for application in proton-exchange membrane fuel cells JO - Small VL - 5 UR - https://doi.org/10.1002/smll.200900278 DO - 10.1002/smll.200900278 ID - Liu2009 ER - TY - JOUR AU - Yang, D. Q. AU - Zhang, G. X. AU - Sacher, E. PY - 2006 DA - 2006// TI - Evidence of the interaction of evaporated Pt nanoparticles with variously treated surfaces of highly oriented pyrolytic graphite JO - J Phys Chem B VL - 110 UR - https://doi.org/10.1021/jp060513d DO - 10.1021/jp060513d ID - Yang2006 ER - TY - JOUR AU - Singh, P. K. AU - Bisht, G. AU - Auluck, K. AU - Sivatheja, M. AU - Hofmann, R. AU - Singh, K. K. AU - Mahapatra, S. PY - 2010 DA - 2010// TI - Performance and reliability study of single-layer and dual-layer platinum nanocrystal flash memory devices under NAND operation JO - IEEE Trans Electron Devices VL - 57 UR - https://doi.org/10.1109/TED.2010.2050961 DO - 10.1109/TED.2010.2050961 ID - Singh2010 ER - TY - JOUR AU - Kim, H. AU - Woo, S. AU - Kim, H. AU - Bang, S. AU - Kim, Y. AU - Choi, D. AU - Jeon, H. PY - 2009 DA - 2009// TI - Pt nanocrystals embedded in remote plasma atomic-layer-deposition HfO2 for nonvolatile memory devices JO - Electrochem Solid-State Letters VL - 12 UR - https://doi.org/10.1149/1.3067834 DO - 10.1149/1.3067834 ID - Kim2009 ER - TY - JOUR AU - Novak, S. AU - Lee, B. AU - Yang, X. AU - Misra, V. PY - 2010 DA - 2010// TI - Platinum nanoparticles grown by atomic layer deposition for charge storage memory applications JO - J Electrochem Soc VL - 157 UR - https://doi.org/10.1149/1.3365031 DO - 10.1149/1.3365031 ID - Novak2010 ER - TY - JOUR AU - Yeom, D. AU - Kang, J. AU - Lee, M. AU - Jang, J. AU - Yun, J. AU - Jeong, D. Y. AU - Yoon, C. AU - Koo, J. AU - Kim, S. PY - 2008 DA - 2008// TI - ZnO nanowire-based nano-floating gate memory with Pt nanocrystals embedded in Al2O3 gate oxides JO - Nanotechnology VL - 19 UR - https://doi.org/10.1088/0957-4484/19/39/395204 DO - 10.1088/0957-4484/19/39/395204 ID - Yeom2008 ER - TY - JOUR AU - Lee, C. AU - Meteer, J. AU - Narayanan, V. AU - Kan, E. C. PY - 2005 DA - 2005// TI - Self-assembly of metal nanocrystals on ultrathin oxide for nonvolatile memory applications JO - J Electron Mater VL - 34 UR - https://doi.org/10.1007/s11664-005-0172-8 DO - 10.1007/s11664-005-0172-8 ID - Lee2005 ER - TY - JOUR AU - Li, J. AU - Liang, X. H. AU - King, D. M. AU - Jiang, Y. B. AU - Weimer, A. W. PY - 2010 DA - 2010// TI - Highly dispersed Pt nanoparticle catalyst prepared by atomic layer deposition JO - Appl Catal Environ VL - 97 ID - Li2010 ER - TY - JOUR AU - Christensen, S. T. AU - Elam, J. W. AU - Rabuffetti, F. A. AU - Ma, Q. AU - Weigand, S. J. AU - Lee, B. AU - Seifert, S. AU - Stair, P. C. AU - Poeppelmeier, K. R. AU - Hersam, M. C. AU - Bedzyk, M. J. PY - 2009 DA - 2009// TI - Controlled growth of platinum nanoparticles on strontium titanate nanocubes by atomic layer deposition JO - Small VL - 5 UR - https://doi.org/10.1002/smll.200801920 DO - 10.1002/smll.200801920 ID - Christensen2009 ER - TY - JOUR AU - Hsu, I. J. AU - Hansgen, D. A. AU - McCandless, B. E. AU - Willis, B. G. AU - Chen, J. G. PY - 2011 DA - 2011// TI - Atomic layer deposition of Pt on tungsten monocarbide (WC) for the oxygen reduction reaction JO - J Phys Chem C VL - 115 UR - https://doi.org/10.1021/jp111180e DO - 10.1021/jp111180e ID - Hsu2011 ER - TY - JOUR AU - Farmer, D. B. AU - Gordon, R. G. PY - 2007 DA - 2007// TI - High density Ru nanocrystal deposition for nonvolatile memory applications JO - J Appl Phys VL - 101 UR - https://doi.org/10.1063/1.2740351 DO - 10.1063/1.2740351 ID - Farmer2007 ER - TY - CHAP AU - Lim, S. H. AU - Joo, K. H. AU - Park, J. H. AU - Lee, S. W. AU - Sohn, W. H. AU - Lee, C. AU - Choi, G. H. AU - Yeo, I. S. AU - Chung, U. I. AU - Moon, J. T. AU - Ryu, B. I. PY - 2005 DA - 2005// TI - Nonvolatile MOSFET memory based on high density WN nanocrystal layer fabricated by novel PNL (pulsed nucleation layer) method BT - Symposium on VLSI Technol. Digest of Technical Papers: June 14–16 2005 PB - IEEE CY - New York ID - Lim2005 ER - TY - JOUR AU - Maikap, S. AU - Wang, T. Y. AU - Tzeng, P. J. AU - Lin, C. H. AU - Lee, L. S. AU - Yang, J. R. AU - Tsai, M. J. PY - 2007 DA - 2007// TI - Charge storage characteristics of atomic layer deposited RuOx nanocrystals JO - Appl Phys Lett VL - 90 UR - https://doi.org/10.1063/1.2749857 DO - 10.1063/1.2749857 ID - Maikap2007 ER - TY - JOUR AU - Zhang, M. AU - Chen, W. AU - Ding, S. J. AU - Wang, X. P. AU - Zhang, W. AU - Wang, L. K. PY - 2007 DA - 2007// TI - Investigation of atomic-layer-deposited ruthenium nanocrystal growth on SiO2 and Al2O3 films JO - J Vac Sci Technol A VL - 25 UR - https://doi.org/10.1116/1.2746874 DO - 10.1116/1.2746874 ID - Zhang2007 ER - TY - JOUR AU - Gou, H. Y. AU - Ding, S. J. AU - Huang, Y. AU - Sun, Q. Q. AU - Zhang, W. AU - Wang, P. F. AU - Chen, Z. PY - 2010 DA - 2010// TI - Nonvolatile metal–oxide–semiconductor capacitors with Ru-RuOx composite nanodots embedded in atomic-layer-deposited Al2O3 films JO - J Electron Mater VL - 39 UR - https://doi.org/10.1007/s11664-010-1245-x DO - 10.1007/s11664-010-1245-x ID - Gou2010 ER - TY - CHAP AU - Gou, H. Y. AU - Chen, S. AU - Ding, S. J. AU - Sun, Q. Q. AU - Lu, H. L. AU - Zhang, W. AU - Wang, P. F. PY - 2012 DA - 2012// TI - Influence of HfAlO composition on memory effects of metal-oxide-semiconductor capacitors with Al2O3/HfAlO/Al2O3 layers and Pd electrode BT - Thin Solid Films ID - Gou2012 ER - TY - JOUR AU - Aaltonen, T. AU - Ritala, M. AU - Sajavaara, T. AU - Keinonen, J. AU - Leskelä, M. PY - 2003 DA - 2003// TI - Atomic layer deposition of platinum thins films JO - Chem Mater VL - 15 UR - https://doi.org/10.1021/cm021333t DO - 10.1021/cm021333t ID - Aaltonen2003 ER - TY - JOUR AU - Hiratani, M. AU - Nabatame, T. AU - Matsui, Y. AU - Imagawa, K. AU - Kimura, S. PY - 2001 DA - 2001// TI - Platinum film growth by chemical vapor deposition based on autocatalytic oxidative decomposition JO - J Electrochem Soc VL - 148 UR - https://doi.org/10.1149/1.1381389 DO - 10.1149/1.1381389 ID - Hiratani2001 ER - TY - JOUR AU - Ohno, Y. AU - Matsushima, T. PY - 1991 DA - 1991// TI - Dissociation of oxygen admolecules on platinum (110)(1 X-2) reconstructed surfaces at low-temperatures JO - Surf Sci VL - 241 UR - https://doi.org/10.1016/0039-6028(91)90210-J DO - 10.1016/0039-6028(91)90210-J ID - Ohno1991 ER - TY - JOUR AU - Knoops, H. C. M. AU - Mackus, A. J. M. AU - Donders, M. E. AU - Sanden, M. C. M. AU - Notten, P. H. L. AU - Kessels, W. M. M. PY - 2009 DA - 2009// TI - Remote plasma ALD of platinum and platinum oxide films JO - Electrochem Solid-State Lett VL - 12 UR - https://doi.org/10.1149/1.3125876 DO - 10.1149/1.3125876 ID - Knoops2009 ER - TY - JOUR AU - Jiang, X. AU - Bent, S. F. PY - 2007 DA - 2007// TI - Area-selective atomic layer deposition of platinum on YSZ substrates using microcontact printed SAMs JO - J Electrochem Soc VL - 154 UR - https://doi.org/10.1149/1.2789301 DO - 10.1149/1.2789301 ID - Jiang2007 ER -